Запуск мелкосерийного производства отечественных погружающих DUV фотолитографов, планируется доставка около 5 единиц в этом году

Сообщение ChainCatcher, согласно информации из 《The Information》, ссылаясь на осведомленные источники, сообщает, что одна компания с государственным капиталом в Шанхае начала производство отечественных погружных DUV-литографов, планируя произвести около 5 единиц в этом году и увеличить производство до примерно 20 единиц к 2027 году. Первые устройства будут поставлены таким крупным полупроводниковым заводам, как SMIC, Hua Hong Semiconductor и ChangXin Technology, однако оборудование все еще должно пройти проверку на точность, стабильность и совместимость с производственными линиями, что может занять несколько месяцев или даже дольше.

В настоящее время большинство компонентов этого оборудования производится в стране, но некоторые ключевые детали все еще зависят от Японии, а его производительность и качество изготовления отстают от ASML. Для сравнения, ASML только в 2025 году поставит около 131 погружного DUV-литографа. Хотя отечественное оборудование уже достигло перехода от прототипного тестирования к малосерийному производству, до массовой замены ASML все еще существует значительный разрыв. Ранее Reuters сообщал, что США рассматривают возможность дальнейшего ужесточения ограничений на экспорт литографического оборудования в Китай и на услуги по его ремонту в стране, и поставка отечественного оборудования совпадает с этим фоном.