有機ブリッジ

三星電機とクアルコムは、2.1Dパッケージ用の有機ブリッジ技術を共同開発しており、関連する開発と検証は1年以上行われています。有機ブリッジはインテルのEMIBで使用されるシリコンブリッジに似ていますが、有機材料を使用し、基板プロセスで製造され、同一パッケージ内の複数の半導体チップを接続するために使用されます。三星電機は、溝のあるFC-BGA基板に有機ブリッジを埋め込み、クアルコムチップを接続し、性能と信頼性を評価しています。クアルコムは、これをデータセンターの大規模な多チップ半導体に使用することを検討しており、2024年10月に関連特許を申請しました。三星電機は、他の多くの顧客とも並行してこの技術を開発しています。有機ブリッジの目標は、5層から7層の再配線層で、線幅と間隔は1.5から2ミクロン、ビアは4から5ミクロンで、チップ間のパターン密度は1ミリメートルあたり500から1000個に達します。三星電機は、自社で試作したサンプルを評価し、外部供給の評価も行い、三星電子のウェーハファウンドリと協力してパッケージ評価を行っています。