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Citrini アナリストの Jukan は、ソーシャルメディアで、中国が DUV 光刻技術において進展を遂げたというニュースは特に驚くべきことではないと述べ、市場は以前から一定の期待を持っていたと指摘しました。彼は、The Information の関連報道が中国のある交通大学の教授の6月の内部会議での発言を引用しただけで、より実質的な情報は公開されていないと述べました。Jukan は、このニュースの影響で、ASML などの半導体設備株に見られる売却反応は過剰であると考えています。以前の報道によれば、The Information は事情に詳しい情報筋の話を引用し、中国の国有資本に支援された企業が自主開発の DUV（深紫外）光刻機製造設備の量産を開始したことを伝え、中国の半導体産業の国産化代替が重要な進展を遂げたことを示しています。情報筋によると、その企業は2026年に約5台の国産 DUV 光刻機を生産する計画で、2027年には約20台に拡大する予定です。オランダの光刻機大手 ASML が昨年131セットの浸漬式 DUV 光刻システムを納入したことと比較するとまだ差がありますが、国産設備が量産段階に入ったことは、中国のチップ供給チェーンの自主化における重要な突破口と見なされています。

『The Information』の報道によると、ある未公開の名称の上海国有資本背景の会社が国産浸漬式DUV露光機の生産を開始し、今年約5台を製造する計画で、2027年には約20台に増加する予定です。最初の設備は中芯国際、華虹半導体、長鑫科技などの主要なウェハファウンドリに納入されますが、設備は精度、安定性、及び生産ラインの互換性の検証を経る必要があり、このプロセスは数ヶ月、あるいはそれ以上かかる可能性があります。現在、この設備の大部分の部品は国内から調達されていますが、一部の重要な部品は依然として日本に依存しており、性能と製造品質はASMLに劣っています。対照的に、ASMLは2025年に約131台の浸漬式DUV露光機を納入する予定です。国産設備はプロトタイプテストから小規模生産への移行を実現しましたが、ASMLの大規模な代替にはまだ明らかな差があります。以前、ロイター通信はアメリカが中国への露光設備の輸出及び中国でのメンテナンスサービスの制限をさらに強化することを検討していると報じており、今回の国産設備の納入はこの背景と重なっています。