duv

Согласно сообщению Bloomberg, аналитики UBS ожидают, что в течение следующих десяти лет производственные мощности полупроводников в Китае могут не достичь достаточно быстрого прогресса, чтобы разработать решения, которые действительно смогут заменить передовую технологию EUV литографии от ASML. В отчете аналитики UBS написали: "Текущая стадия, на которой они находятся, кажется, соответствует той, на которой ASML находилась в 2004 году", исходя из активности подачи патентов, особенно в области источников света и лазерных подсистем, текущая технологическая зрелость Китая примерно соответствует уровню, на котором ASML начала массовое производство оборудования EUV за 15 лет до этого.UBS также ожидает, что в течение следующих двух-трех лет Китай сможет наладить массовое производство погружных DUV литографических машин. Хотя погружной DUV не так совершенен, как EUV, он все же является незаменимым оборудованием для производства чипов. Цена на погружной DUV от ASML составляет почти 90 миллионов долларов, в то время как цена на оборудование EUV превышает 200 миллионов долларов за единицу. Китай является одним из крупнейших рынков ASML, но из-за экспортных ограничений ASML запрещено продавать оборудование EUV в Китай. UBS отмечает, что с учетом различий в выходе и производственных мощностях, а также регуляторных ограничений, маловероятно, что китайское литографическое оборудование будет применяться за границей. Представитель ASML не ответил на запрос о комментариях. Этот отчет основан на прогнозах аналитиков UBS, фактический прогресс будет зависеть от динамики отрасли.

Сообщение ChainCatcher, аналитик Citrini Jukan в социальных сетях заявил, что новости о прогрессе Китая в технологии DUV фотолитографии не являются особенно неожиданными, так как рынок уже сформировал определенные ожидания. Он отметил, что соответствующий отчет The Information лишь цитирует профессора из одного из китайских транспортных университетов, который выступал на внутреннем собрании в июне, и не раскрывает больше существенной информации. Jukan считает, что реакция на продажу акций полупроводниковых компаний, таких как ASML, вызвана чрезмерной реакцией на эту новость.Ранее сообщалось, что, по данным The Information, по информации осведомленных источников, компания, поддерживаемая государственным капиталом Китая, начала массовое производство самостоятельно разработанного оборудования для фотолитографии DUV (глубокий ультрафиолет), что знаменует собой ключевой прогресс в замещении импортных технологий в китайской полупроводниковой индустрии.По словам источников, компания планирует произвести около 5 отечественных DUV фотолитографов к 2026 году и расширить производство до примерно 20 единиц в 2027 году. Хотя это все еще отстает от 131 поставленного погружного DUV фотолитографического системы голландским гигантом ASML в прошлом году, выход отечественного оборудования на этап массового производства рассматривается рынком как важный прорыв в автономизации цепочки поставок чипов в Китае.

Сообщение ChainCatcher, согласно информации из 《The Information》, ссылаясь на осведомленные источники, сообщает, что одна компания с государственным капиталом в Шанхае начала производство отечественных погружных DUV-литографов, планируя произвести около 5 единиц в этом году и увеличить производство до примерно 20 единиц к 2027 году. Первые устройства будут поставлены таким крупным полупроводниковым заводам, как SMIC, Hua Hong Semiconductor и ChangXin Technology, однако оборудование все еще должно пройти проверку на точность, стабильность и совместимость с производственными линиями, что может занять несколько месяцев или даже дольше.В настоящее время большинство компонентов этого оборудования производится в стране, но некоторые ключевые детали все еще зависят от Японии, а его производительность и качество изготовления отстают от ASML. Для сравнения, ASML только в 2025 году поставит около 131 погружного DUV-литографа. Хотя отечественное оборудование уже достигло перехода от прототипного тестирования к малосерийному производству, до массовой замены ASML все еще существует значительный разрыв. Ранее Reuters сообщал, что США рассматривают возможность дальнейшего ужесточения ограничений на экспорт литографического оборудования в Китай и на услуги по его ремонту в стране, и поставка отечественного оборудования совпадает с этим фоном.