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first_img SemiAnalysis:ASMLは混合接合装置の開発を進めています

半導体研究機関 SemiAnalysis は 10 月 15 日に、フォトリソグラフィ装置メーカー ASML が関連製品を正式に発表していないが、特許、ニュース報道、会社のロードマップがその混合接合装置の開発を示唆していると発表した。記事の著者は、ASML がまず難易度の高いチップからウエハ混合接合ツールを発売し、それを垂直統合の延長と見なす可能性があると判断している。特許によると、システムはトラック上で動作し、各チップは独立したキャリアに置かれ、順次検査、洗浄、プラズマ活性化、形状検査、平坦化、粗いアライメント、位置調整、精密アライメントを経て接合ステーションに入る。最終的にはキャリアと吸盤によって配置される。トラックの繰り返し精度は約 10 マイクロメートルで、接合に必要な約 50 ナノメートルには遠く及ばない。ASML は 2022 年 12 月から 2024 年 11 月までに 27 の接合特許ファミリーを提出しており、その大部分はチップからウエハ向けである。The Elec の 3 月の報道によれば、ASML は Prodrive Technologies、VDL ETG と混合接合機構の設計を開始した。記事によると、ウエハからウエハの混合接合は画像センサーや 3D NAND に使用されており、チップからウエハは現在、論理チップの量産にのみ使用されている。これには、AMD が 2022 年から出荷している混合接合 V-Cache や、台積電の SoIC が含まれる。SoIC の現在の間隔は約 6 マイクロメートルで、目標は 2029 年までに 4.5 マイクロメートルに達することである。Besi は現在、チップからウエハの量産ツールを持つ唯一のサプライヤーであり、関連する論理ビジネスは主に台積電とインテルに集中している。

StripeとPlasmaが提携し、多通貨ステーブルコインカードを発表して、国境を越えた為替コストを削減します。

StripeはPlasmaと提携し、複数通貨のステーブルコインカードを開発することを発表しました。このカードは、個人や企業が保有している通貨を使用して消費できるようにし、不必要な通貨交換や為替コストを削減することを目的としています。Plasmaは設計パートナーとして、Stripeのステーブルコインカードのインフラに接続し、顧客の口座残高を複数通貨カードで支払いに使用できるようにします。拡張されたインフラは、米ドル、ブラジルレアル、ユーロ、メキシコペソ、コロンビアペソをサポートします。ステーブルコインにはUSDC、OUSD、およびGENIUS法案の要件を満たす適格なステーブルコインが含まれます。Stripeのステーブルコインカードサービスは現在30以上の国で利用可能で、2027年には100以上の国に拡大する予定です。例えば、ユーロを保有しているユーザーは、将来的にユーロで直接消費でき、米ドルに交換する必要はありません。企業は自社の支出ニーズに合わせた通貨カードを発行できます。Stripeはまた、カード保有者が複数の口座残高を使用して消費し、購入時に自動的に適切な通貨を選択できるようにする計画も立てています。

first_img ASMLは第3四半期の財務報告を発表し、市場は利益がほぼ倍増することを予想しています。

オランダの半導体製造装置メーカーASMLは、10月14日に第3四半期の決算を発表する予定です。AIチップの需要に後押しされ、市場は2025年同期と比較して収益と利益が大幅に増加することを予想しています。ウォール街のアナリストは、第3四半期の収益を117.3億ユーロ、前年比55%増と予測しています;1株当たりの利益は10.76ユーロで、2025年第3四半期の5.49ユーロと比較してほぼ倍増します。ASMLの第2四半期の収益は93億ユーロで、2025年同期の77億ユーロを上回り、純利益は23億ユーロから29億ユーロに増加しました。会社は、発表予定の第3四半期の収益を110億から120億ユーロ、粗利率は55%から57%と予測し、年間収益の見通しを430億から450億ユーロに引き上げました。ASMLは、極紫外線(EUV)露光装置を商業生産している唯一のメーカーであり、TSMC、インテル、サムスンなどのファウンドリは、先進的なAIプロセッサを製造するためにその装置に依存しています。また、同社は次世代のHigh-NA EUVを開発中です。インテルは、この装置を使用して研究開発、テスト、製造において100万枚以上のウェハを処理しています。サムスンは2028年に先進的なDRAMの量産にこの装置を導入する計画です。市場は、ASMLが2027年に既存のEUVシステムの生産能力を約30%引き上げる計画を立てていると予想しています。

first_img 台積電は2030年からASMLの高NA EUVリソグラフィ装置を量産する予定です。

台積電は9月8日、2030年からオランダのASMLが製造した極端紫外線(EUV)露光装置の新型「高NA」機を量産に採用することを発表しました。双方は同日、業界横断的な高NA機の改良作業を行うことも発表しました。ASMLはナノレベルの超微細回路を形成するためのEUV露光機の供給を独占しており、2023年12月からより細い回路を描画できる高NA機の出荷を開始します。インテルは高NA機を導入しており、台積電は以前、コストが高いなどの理由で量産の採用を延期していました。台積電とASMLは業界横断プロジェクトを開始し、回路の原版としての光マスクを現在の6インチ(約15センチメートル)から12インチの大型に変更し、それに対応する大型マスク用の高NA機および関連部品を開発します。2031年までに大型マスクの試作生産ラインを設立し、2033年までに大型マスクに対応する高NA機を先進的な半導体生産に投入できる状態にする計画です。主要な半導体製造業者やマスク企業などが参加に興味を示しています。高NA機はより細い回路を描画できますが、一度に描画できる面積は従来の機種の半分に減少し、大型チップ回路を描く際には複数回の露光が必要で、工程が複雑になり、コストが上昇します。光マスクの大型化により露光面積を拡大し、コストを削減できます。台積電の会長兼CEOである魏哲家は当日、業界全体の専門知識を集め、先進技術を広く利用可能にする技術革新を継続的に推進し、その利益を伝えていくと述べました。

hot_img スイス・ユニオンバンク(UBS):中国は今後10年以内にASMLの最先端EUV露光装置に匹敵するものを開発するのが難しく、DUVの量産には2年から5年を要する可能性がある。

彭博社の報道によると、UBSグループのアナリストは、今後10年間で中国の半導体製造能力が十分に速い進展を遂げることは難しいと予測しており、ASMLの最先端EUV露光技術を本当に代替できるソリューションを開発することができないとしています。UBSのアナリストは報告書の中で、「彼らが現在いる段階は、ASMLが2004年にいた段階に相当するようだ」と述べており、特に光源やレーザーサブシステムの分野における特許申請活動から見ると、中国の現在の技術成熟度は、ASMLがEUV装置の大規模生産を開始する前の15年のレベルに大体相当しています。UBSは同時に、中国が今後2〜5年以内に浸漬式DUV露光機の大規模量産能力を持つことが期待されると予測しています。浸漬式DUVはEUVほど先進的ではありませんが、依然としてチップ製造に不可欠な設備です。ASMLの浸漬式DUVの価格は約9000万ドルで、EUV装置は1台あたり2億ドルを超えます。中国はASMLの最大市場の一つですが、輸出制限の影響を受け、ASMLは中国にEUV装置を販売することが禁止されています。UBSは、良率や生産能力の差、規制の制約を考慮すると、中国の露光装置が海外で使用される可能性は低いと指摘しています。ASMLのスポークスマンはコメントのリクエストに応じていません。この報道はUBSアナリストの予測に基づいており、実際の進展は産業の動向に基づいています。

hot_img シトリニアナリスト:中国のDUVの進展は意外ではなく、ASMLなどの半導体機器株は売り過ぎである

Citrini アナリストの Jukan は、ソーシャルメディアで、中国が DUV 光刻技術において進展を遂げたというニュースは特に驚くべきことではないと述べ、市場は以前から一定の期待を持っていたと指摘しました。彼は、The Information の関連報道が中国のある交通大学の教授の6月の内部会議での発言を引用しただけで、より実質的な情報は公開されていないと述べました。Jukan は、このニュースの影響で、ASML などの半導体設備株に見られる売却反応は過剰であると考えています。以前の報道によれば、The Information は事情に詳しい情報筋の話を引用し、中国の国有資本に支援された企業が自主開発の DUV(深紫外)光刻機製造設備の量産を開始したことを伝え、中国の半導体産業の国産化代替が重要な進展を遂げたことを示しています。情報筋によると、その企業は2026年に約5台の国産 DUV 光刻機を生産する計画で、2027年には約20台に拡大する予定です。オランダの光刻機大手 ASML が昨年131セットの浸漬式 DUV 光刻システムを納入したことと比較するとまだ差がありますが、国産設備が量産段階に入ったことは、中国のチップ供給チェーンの自主化における重要な突破口と見なされています。

Bybit TradFiに新たに3つの米国株CFDが登場:ASML、LRCX、RIVN。チップ、半導体設備、そして新エネルギーへの投資機会を一括でキャッチ。

Bybit TradFi は本日、ASML、LRCX、RIVN の三大人気米国株 CFD を上場し、高級チップ製造、半導体機器および電気自動車の分野をカバーし、ユーザーがグローバル市場に簡単に投資できるよう支援します。また、Bybit TradFi は期間限定の特典を提供しており、新規ユーザーは最大 5,030 USDT の新人ボーナスを受け取ることができ、入金して取引を行うことで専用の報酬をアンロックできます。ASML:世界をリードするフォトリソグラフィ機器の巨人、半導体産業チェーンの核心企業LRCX(Lam Research):半導体機器のリーダー、チップ製造の継続的な成長の恩恵を受けるRIVN(Rivian):アメリカの新エネルギー車の新興勢力、電動ピックアップトラックと SUV に特化上記の米国株は、取引開始後に Bybit TradFi で取引可能です。現在、Bybit TradFi プラットフォームは 200 以上の伝統的資産の取引をサポートしており、金、銀、人気のインデックス、外国為替など、より多くの米国株をカバーし、プラットフォームユーザーにより包括的な投資機会を提供しています。
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